西南证券：复盘 ASML 发展历程，探寻本土光刻产业链投资机会（附报告）

光刻机是芯片制造中最核心设备，复杂程度高，形成庞大产业链。光刻环节是晶圆制造中最核心工艺，占晶圆制造耗时 40%-50%，占芯片成本 30%。作为光刻工艺的核心设备，光刻机结构复杂、成本极高，占晶圆制造设备投资 23%。区别于其他晶圆制造设备，浸没式 DUV 和 EUV 光刻机可形成自身产业链，因此高端光刻机的突破需要物镜、光源、浸没式系统等核心组件和光刻胶、光刻气、光罩、涂胶显影设备、检测设备等诸多配套设施的协同发展。

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