方正证券：108页光刻机行业研究框架（附报告）
方正证券：108页光刻机行业研究框架—专题报告
报告目录：
一、光刻机投资逻辑框架
国产光刻机产业链:按图索骥
ASML光刻机产业链:集成全球工艺
光刻机公司地图概览:前道光刻，一家独大
从0到1，国产光刻机如何破局
二、光刻机详解:现代光学工业之花
光刻机:半导体工业皇冠上的明珠
光刻机的演变及历史性转折
顶级光刻机的尖端工艺
三、光刻机的全球视角
光刻机的全球市场空间
光刻机的全球市场格局
海外巨头概览
四、国产光刻机之路:路漫漫其修远兮
02专项:众志成城，技术突破
国产光刻机市场空间与工艺水平剖析
探寻国产光刻机产业链投资机会
报告要点：
重中之重，前道设备居首位。光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、 镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备)，价值含量极大，在制造设 备投资额中单项占比高达23%，技术要求极高，涉及精密光学、精密运动、高精度环 境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶，被誉为半导体工业皇冠上的 明珠。
冲云破雾，国产替代迎曙光。目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断 ,CR3高达99%。在当前局势下，实现光刻机的国产替代势在必行，具有重大战略意义 。在02专项光刻机项目中，设定于2020年12月验收193纳米ArF浸没式DUV光刻机， 其制程工艺为28纳米。考虑到此项目作为十三五目标，未来具有较大的明确性，结合 28nm作为当前关键技术节点的性能和技术优势，我们认为光刻机国产替代将迎来新 的曙光，尤其是IC前道制造领域，将初步打破国外巨头完全垄断的局面，实现从0到1 的突破。
按图索骥，追根溯源寻标的。通过对即将交付的28nm光刻机进行剖析，建议关注以 举国之力助力国产替代的光刻产业链，一是光刻机核心组件:负责整体集成的上海微 电子、负责光源系统的科益虹源，负责物镜系统的国望光学，负责曝光光学系统的国 科精密，负责双工作台的华卓精科，负责浸没系统的启尔机电;二是光刻配套设施: 包括光刻胶，光刻气体，光掩模版，光刻机缺陷检测设备，涂胶显影设备等。
内容精选：
从上下游利益链条看ASML是如何成功的
ASML的成功=上游供应商的顶尖技术+下游厂商的巨额投资+开放性研究网络。
高端光刻机集合了全球各国最顶尖的科技，如:德国的蔡司镜头技术、美国的控制软件和光源、日本的特殊复合材料等，下游厂商为了获得优先供货权纷纷投入巨额资金支持ASML研发。
图：ASML利益链条
从0到1，国产光刻机如何破局
中国晶圆代工需求占全球代工总需求比重日益提升。根据IBS显示，2018年中国IC设计公司对晶 圆制造需求约805亿元，占全球晶圆代工规模4,088亿元的19.7%，到2025年时需求上升涨至 30.5%。在这样的格局下，中国对于半导体制造设备的需求以及资本投入将会日益提高。
图：中国代工市场占比
图：光刻机公司地图概览:前道光刻，一家独大
随着中国大陆代工厂的不断扩建，未来对于国产光刻机的需求不断提升，而当前国内与国外顶 尖光刻机制程仍存在较大差距，国产光刻机应从如下几个方面寻求突破:1、产业分工:国内涉 及相关光刻机零部件的企业形成产业分工，各取所长研发、提供相应的技术和零部件;2、科研 投入:目前国内企业仍存有买办思维，光刻机作为人类智慧的结晶，高科技产物，科研投入必 不可少;3、技术突破:汇集顶尖人才对于核心技术优先突破;4、人才积累:注重奖励机制。
图：国产光刻机如何破局
光刻机全球市场未来预测
受益于下游需求旺盛，光刻设备有望量价齐升带动市场空间不断增长。
价:随着芯片制程的不断升级，IC前道光刻机制造日益复杂，其价格不断攀升。 先进制程发展使得晶体管成本降低，但是光刻机价格不断增高。目前7nm EUV光 刻机平均每台价格达到了1.2亿欧元。
量:晶圆尺寸变大和制程缩小将使产线所需的设备数量加大，性能要求变高。12 寸晶圆产线中所需的光刻机数量相较于8寸晶圆产线将进一步上升。同时预计 2020年随着半导体产线得到持续扩产，光刻机需求也将进一步加大。
图：光刻机和晶体管的价格变化趋势
图：12寸晶圆产线需要的光刻设备更多
全球格局三足鼎立，ASML龙头地位突显
目前全球光刻设备的格局是:ASML一家独占鳌头，成为唯一的一线供应商，旗 下产品覆盖了全部级别的光刻机设备;Nikon高开低走，但凭借多年技术积累， 勉强保住二线供应商地位;而Canon只能屈居三线;上海微电子装备(SMEE) 作为后起之秀，暂时只能提供低端光刻设备，由于光刻设备对知识产权和供应链 要求极高，短期很难达到国际领先水平。
目前光刻机行业已经成为一个高度垄断的行业。如果没有特别原因，这一格局在未来的时间里都很难发生变化。
图：ASML龙头地位
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