不用EUV光刻机也能搞定,中芯国际7nm工艺细节曝光

不用EUV光刻机也能搞定,中芯国际7nm工艺细节曝光


2月14日上午在中芯国际2019第四季度电话财报会议中,中芯国际联席CEO梁孟松博士和赵海军博士介绍了新冠肺炎对于公司的影响并介绍了新的N+1和N+2工艺的进展情况


根据中芯国际昨天公布的2019年第四季度财报显示,该季度营收位8.39亿美元,相比去年同期的7.88亿美元增长了6%,环比则增长了2.8%;毛利为1.99亿美元,相比去年同期的1.34亿美元几乎增长了50%。


据了解,中芯国际原定的2019年全年增长率目标是达到20~21%但由于产能利用率高成本控制得好增长率高于预期中国地区的业务增长尤为强劲第四季度来自中国地区的营收环比增长11%同比增长了21%


对于新的财年,赵海军博士指出,受新型冠状病毒疫情的影响,对业务和收入产生负面是肯定的事情这个时候所有人都不能对疫情带来的整体影响有一个清晰的了解但基于客户反馈中芯国际第一季度的收入和毛利率都会很高没有任何影响第二季度影响将会慢慢显现不过到第三季度中芯国际有额外的能力额外的技术平台可会补偿第二季度的损失


在工艺方面,财报显示2019年四季度量产的14nm工艺,已经为中芯国际带来了768万美元的营收,不过在整个四季度的营收占比仅不到1%。而中芯国际14nm工艺目前所面临的主要问题还是产能,目前中芯国际14nm工艺主要是在上海的中芯南方12英寸晶圆厂生产,去年底也就生产了1000片晶圆左右,产量很低。


不过,根据中芯国际联席CEO梁孟松的说法,今年3月14nm月产能将达到4000片,7月将达到9000片,12月将达到15000片。

另外,中芯国际还将推出基于14nm改良的12nm工艺,据介绍,该工艺比14nm晶体管尺寸进一步缩微,功耗降低20%、性能提升10%,错误率降低20%,目前已经进入了客户导入阶段。

不过,即便是12nm工艺,也与目前台积电、三星最先进的5nm工艺相比,仍然有着2-3代的技术差距。因此,中芯国际也在加快研发更为先进的工艺制程。

在这次的财报会议上,梁孟松博士也首次公开了中芯国际的N+1、N+2工艺的情况。


梁孟松博士表示,中芯国际的N+1工艺和现有的14nm工艺相比,性能提升了20%,功耗降低了57%,逻辑面积缩小了63%,SoC面积减少了55%。


虽然梁孟松博士并未明确这个N+1工艺是10nm工艺还是7nm工艺,但是从上面公布的逻辑米娜及缩小的数据来看,很可能是7nm工艺。而此前业内也有消息称中芯国际将跳过10nm工艺,直接研发7nm工艺。


不过,梁孟松博士也表示,N+1代工艺在功耗及稳定性上跟7nm工艺非常相似,但性能不如,业界标准是提升35%,所以中芯国际的N+1工艺主要面向低功耗应用的。


而在N+1之后,中芯国际还会有N+2,这两种工艺在功耗上表现差不多,区别在于性能及成本,N+2显然是面向高性能的,成本也会增加。


至于推出的时间,在此前的财报当中,梁孟松博士有提到会在2020年底开始试验产能,而真正的量产可能要等到2021年了。


对于此前备受关注的中芯国际向ASML订购的EUV光刻机,由于“出口许可过期”交付被中止一事,中芯国际官方并未回应,不过梁孟松博士表示,在当前的环境下,N+1、N+2代工艺都不会用EUV工艺,等到设备就绪之后,N+2之后的工艺才会转向EUV光刻工艺。


显然,中芯国际的7nm工艺的路线规划来看,与此前台积电的路线差不多。台积电也是一开始选择原有的DUV工艺来开发7nm,去年才开始推出基于EUV工艺的7nm+,不过光罩层数也比较少,而5nm节点才是充分利用EUV光刻工艺的,可以达到了14层EUV光罩。


编辑:芯智讯-林子

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原文始发于微信公众号(芯智讯):不用EUV光刻机也能搞定,中芯国际7nm工艺细节曝光

 

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