台积电工艺规划路线图

在六月初,台积电举办了 2021 年技术研讨会,涵盖了其在工艺节点技术方面的最新发展,旨在为客户提高性能、成本和能力。在这次活动中,台积电讨论了其在制造中越来越多地使用极紫外 (EUV) 光刻技术,使其能够缩小到其 3nm 工艺节点,远远超过其竞争对手。台积电还解决了当前围绕半导体需求的问题,并宣布正在建设用于先进封装生产的新工厂。
下面,我们把他们演讲的Slide分享如下,让大家知道这家晶圆代工巨头的发展方向。

 

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

台积电工艺规划路线图

来源:内容来自「光刻人的世界」,谢谢。

 

注:本站文章除标明原创外,均来自网友投稿及分享,如有侵权请联系dongxizhiku@163.com删除。

         

发表评论